литографияСбросить фильтр ×

TSMC уменьшит площадь ячеек SRAM в техпроцессе A14

3@ru3dnewsмедиа / агрегатор
12 ч
TSMC уменьшит площадь ячеек SRAM в техпроцессе A14

Langdao Silex представила прототип источника EUV-излучения

Х@htech_plusисследователь
1 нед

ASML не успевает удовлетворить спрос на литографическое оборудование

Бум искусственного интеллекта вызвал многолетний дефицит оборудования ASML для производства чипов: производители уже интересуются поставками на 2029 и 2030 годы. Компания не рассчитывает удовлетворить спрос в 2027 и 2028 годах даже при расширении мощностей.

Дефицит оборудования затрудняет быстрое увеличение выпуска микросхем, необходимых ИИ-индустрии. Особенно значим спрос на оборудование для производства чипов памяти.

2029 и 2030годы ожидаемых поставок
30%планируемый рост мощностей
€44–45 млрдпрогноз годовой выручки

Полный разбор →

Обзор событий в мире технологий: 14 октября 2026

P@prohitecавтор про «tech»
1 нед

Китайский стартап Landau Flint представил прототип EUV-источника

P@prohitecавтор про «tech»
1 нед
Китайский стартап Landau Flint представил прототип EUV-источника

ASML разрабатывает литографию Hyper NA следующего поколения

3@ru3dnewsмедиа / агрегатор
2 нед
ASML разрабатывает литографию Hyper NA следующего поколения

Китай накопил сотни DUV-литографов ASML, достаточных для массового выпуска 7-нм ИИ-чипов

По данным доклада американского Центра технологий и государственного управления (CTS), китайские производители микросхем с 2012 года получили около 343 иммерсионных DUV-литографiов ASML, включая 270 установок модели NXT:1980ii. Несмотря на экспортные ограничения на поставки передовых EUV-систем, этого оборудования достаточно для производства 7-нм чипов и памяти HBM2ei, используемых в ИИ-ускорителях Huawei.

Авторы отчёта считают, что накопленный парк литографов позволит Китаю наращивать выпуск современных процессоров на годы вперёд, даже если новые поставки передовой техники прекратятся полностью.

343DUV-литографов ASML у Китая
270установок NXT:1980i
$13 млрдсумма закупок за 2024–2025 годы

Полный разбор →

Запуск комплекса HALF в Китае: новый шаг к экстремальной УФ-литографии

Х@htech_plusисследователь
4 нед
Запуск комплекса HALF в Китае: новый шаг к экстремальной УФ-литографии

ASML объяснила сложности с наращиванием производства EUV-сканеров

3@ru3dnewsмедиа / агрегатор
4 нед
ASML объяснила сложности с наращиванием производства EUV-сканеров

ASML не продала литографическое оборудование в Европе в 2026 году

P@prohitecавтор про «tech»
1 мес
ASML не продала литографическое оборудование в Европе в 2026 году

Ученые ETH Zurich разработали метод печати OLED-пикселей с помощью ультрафиолета

3@ru3dnewsмедиа / агрегатор
1 мес
Учёные создали OLED размером с амёбу — его пиксели «напечатали» ультрафиолетом, как чипы Учёные ETH Zurich разработали способ «печатать» OLED-пиксели ультрафиолетом — почти как элементы микросхем. Для этого они создали светящиеся полимеры, которые выдерживают фотолитографию и превращаются в нужные структуры под действием UV. В эксперименте исследователи сделали многоцветное изображение попугая размером всего 300×430 мкм с разрешением 250×350 пикселей. Технология может пригодиться для сверхмалых экранов в устройствах дополненной реальности, микроскопии и биомедицине. #oledэкран #литография 📎Подробнее 🔖 3DNews в TG | MAX | VK
Ученые ETH Zurich разработали метод печати OLED-пикселей с помощью ультрафиолета

Китайские учёные предложили способ создавать 3-нм чипы без EUV-литографии ASML

Исследователи из Китая разработали предварительную технологию производства транзисторов с нормами менее 3 нм на основе архитектуры Gate-All-Around (GAAi) с использованием DUVi">i-литографии — то есть без доступа к запрещённым для Китая EUV-установкам ASML.

Это потенциально открывает путь к обходу экспортных санкций на передовое литографическое оборудование, критичных для развития китайской полупроводниковой отрасли, хотя до массового производства технология пока далека.

ВыводДля достижения 3-нм нормы без EUV предлагается многократно наносить рисунок на пластины (мультипаттернинг), что усложняет и удорожает производственный процесс

3 нмцелевая норма транзисторов без EUV
1,4 нмуровень плотности, к которому стремится Huawei

Полный разбор →

Поставки первого серийного российского литографа начнутся в декабре 2026

Х@htech_plusисследователь
1 мес
Поставки первого серийного российского литографа начнутся в декабре 2026

TSMC, Samsung и Intel переходят на увеличенные фотомаски для литографии High-NA EUV

AI-редакция
2 источника · показать все· свернуть
собирается · 2обновлено 1 мес назад

TSMC, Samsung и Intel договорились о переходе на фотомаскиi (фотошаблоны) увеличенного формата — с 150 до 300 мм (12-дюймовые) — для сканеров ASML High-NA EUVi. Это должно повысить пропускную способность машин примерно на 40% и снизить себестоимость производства передовых чипов и памяти.

Сроки перехода у компаний разные: Intel уже применяет технологию сегодня, Samsung нацелена на 2028 год, а TSMC — на более отдалённую перспективу. Решение важно для отрасли, поскольку от него зависит, как быстро производители смогут закрывать текущий дефицит чипов и памяти.

40%прирост пропускной способности сканеров
150 → 300 ммувеличение формата фотомасок
более 1 млн пластинобработано Intel на 18A/18A-P

Полный разбор →

Китай отстаёт от ASML в EUV-литографии на 15 лет — оценки UBS и Zeiss совпадают

Аналитики UBS считают, что китайские производители литографического оборудования отстают от нидерландской ASMLi примерно на 15 лет и вряд ли освоят EUV-технологию самостоятельно раньше 2040 года. Эту оценку подтвердил и Франк Рохмунд, руководитель полупроводникового подразделения немецкой Zeiss Group, поставляющей оптику для сканеров ASML — единственного в мире производителя EUV-установок.

При этом Китай уже создал прототип EUV-установки, но производить на нём чипы пока не получается. Зато в сегменте менее продвинутой DUVi-литографии прогресс быстрее: по данным Reuters, выпуск таких систем китайскими компаниями может вырасти с пяти в этом году до примерно 20 в следующем.

15 летотставание Китая от ASML в литографии
2040год, раньше которого Китай вряд ли освоит EUV
5 → 20 системрост выпуска DUV-установок в Китае за год

Полный разбор →

Китай разработал ключевой компонент для EUV-литографии

3@ru3dnewsмедиа / агрегатор
2 мес
Китай разработал ключевой компонент для суверенной EUV-литографии — помог бывший инженер ASML Производство полупроводников зависит от литографических сканеров, но их выпускает лишь несколько западных компаний. Китай, пытаясь сократить отставание, развивает собственные технологии. Недавно местным исследователям удалось создать источник излучения в сверхжёстком ультрафиолетовом диапазоне EUV. Такие источники нужны для разработки передового оборудования для производства чипов. #asml #euv #литография #производствомикросхем 📎Подробнее 🔖 3DNews в TG | MAX | VK
Китай разработал ключевой компонент для EUV-литографии

История ASML: как голландцы создали монополию на литографию чипов

AI-редакция
2 источника · показать все· свернуть
собирается · 2обновлено 2 мес назад

Вышел подробный видеоразбор о том, как нидерландская компания ASMLiического оборудования для изготовления микрочипов">i стала создателем самой сложной машины в истории — литографа для производства микрочипов. Без этой техники невозможно изготовление ни одного продвинутого чипа в мире, что делает ASML критическим «бутылочным горлышком» глобального технологического прогресса.

В материале разбирается путь компании от небольшой команды инженеров в городке Велдховен до победы над японскими конкурентами и захвата монополии на рынок EUV-литографии, а также то, как Нидерланды из-за этой технологии оказались в центре геополитического противостояния.

40инженеров в основании ASML

Полный разбор →

AMEC планирует занять 60% рынка оборудования для чипов в Китае

3@ru3dnewsмедиа / агрегатор
2 мес
Китайская AMEC планирует за пять лет захватить 60 % рынка передового оборудования для выпуска чипов Производство полупроводников включает сотни этапов, и для каждого нужны свои станки и инструменты. На фоне усиления западных санкций китайские компании ускоряют импортозамещение литографического оборудования. AMEC рассчитывает занять не менее 60% местного рынка передовых систем для производства чипов. #китайскиепроизводители #литография #производствомикросхем #полупроводники 📎Подробнее 🔖 3DNews в TG | MAX | VK
AMEC планирует занять 60% рынка оборудования для чипов в Китае

Китай запустил серийное производство отечественных DUV-литографов для чипов до 7 нм

Государственная компания из Шанхая Shanghai Aishengna, объединившая команды нескольких местных разработчиков (включая стартап Shanghai Yuliangsheng Technology), начала серийный выпуск иммерсионных DUV-литографов — оборудования для производства чипов техпроцессом до 7 нм. Об этом со ссылкой на двух источников сообщило издание The Information; новость также подтвердил CNBC.

Первые машины планируют поставить крупнейшим китайским производителям чипов — SMIC, Hua Hong Semiconductor и ChangXin Memory Technologies (CXMT) — уже в конце 2026 года. Это шаг к снижению зависимости Китая от нидерландской ASML и попытка ослабить эффект экспортных ограничений США, хотя по масштабам и качеству китайское оборудование пока сильно отстаёт от западного.

5 → 20число литографов в 2026 и 2027 году
>100иммерсионных DUV-машин ASML поставляет ежегодно
7 нмминимальный техпроцесс чипов на новом оборудовании

Полный разбор →

LG начала продажи систем лазерной литографии без фотошаблонов

P@prohitecавтор про «tech»
2 мес
LG начала продажи систем лазерной литографии без фотошаблонов
Ещё ↓