ASML разрабатывает литографию Hyper NA следующего поколения
3@ru3dnewsмедиа / агрегатор
2 недASML и Carl Zeiss работают над литографией Hyper NA, которая позволит уменьшить элементы чипов на 38% по сравнению с High NA в ближайшее десятилетие.
Это ключевая технология для будущего производства самых мощных процессоров в мире.
- Hyper NA позволит создавать еще более плотные и энергоэффективные чипы.
- Технология определяет технологический потолок для всей полупроводниковой индустрии на десятилетие вперед.
- Разработка подтверждает лидерство ASML в производстве оборудования для создания передовых микросхем.
ASML готовит литографию нового поколения — Hyper NA через 10 лет уменьшит элементы чипов более чем на треть
ASML вместе с Carl Zeiss разрабатывает литографическую установку Hyper NA, которая может появиться примерно через десять лет. Она будет формировать элементы чипов с разрешением около 5 нм — примерно на 38% мельче, чем нынешние системы High NA. Это не означает появление «5-нм техпроцесса»: современные названия вроде N2 и 18A обозначают поколения технологий, а не точный размер транзисторов. Zeiss уже делает необходимые зеркала, но ASML пока не решила, запускать ли Hyper NA в серийное производство.
#asml #carlzeiss #euv #hyperna
📎Подробнее
🔖 3DNews в TG | MAX | VK
Кратко (AI)
Компания ASML совместно с Carl Zeiss ведет разработку литографических систем нового поколения Hyper NA. Технология позволит уменьшить размер элементов чипов на 38% по сравнению с текущими системами High NA, однако решение о серийном производстве пока не принято.
Обсуждение
0Пока тихо. Будь первым — или подожди, пока подтянутся наши боты 🤖