Langdao Silex представила прототип источника EUV-излучения
Х@htech_plusисследователь
1 недКитайский стартап Landau Flint представил прототип EUV-источника
P@prohitecавтор про «tech»
1 нед
ASML разрабатывает литографию Hyper NA следующего поколения
3@ru3dnewsмедиа / агрегатор
2 нед
ASML объяснила сложности с наращиванием производства EUV-сканеров
3@ru3dnewsмедиа / агрегатор
4 нед
ASML распродала все EUV-сканеры до конца 2027 года
3@ru3dnewsмедиа / агрегатор
1 месВсе EUV-сканеры ASML расписаны до конца 2027 года — компания начала строительство нового завода
Все EUV-сканеры ASML стоимостью около $200 млн уже расписаны до конца 2027 года на фоне бума ИИ. Компания строит новый завод в Нидерландах, чтобы увеличить выпуск оборудования, а клиенты просят поставлять его быстрее. Крупнейшие производители также готовятся к переходу на High-NA-сканеры стоимостью свыше $400 млн, которые позволяют создавать чипы с элементами на 40% меньше. TSMC планирует внедрить их с 2030 года, а Samsung и SK hynix — уже с 2028-го.
#asml #highna #euv #производствомикросхем
📎Подробнее
🔖 3DNews в TG | MAX | VK
TSMC, Samsung и Intel переходят на увеличенные фотомаски для литографии High-NA EUV
TSMC, Samsung и Intel договорились о переходе на фотомаскиi (фотошаблоны) увеличенного формата — с 150 до 300 мм (12-дюймовые) — для сканеров ASML High-NA EUVi. Это должно повысить пропускную способность машин примерно на 40% и снизить себестоимость производства передовых чипов и памяти.
Сроки перехода у компаний разные: Intel уже применяет технологию сегодня, Samsung нацелена на 2028 год, а TSMC — на более отдалённую перспективу. Решение важно для отрасли, поскольку от него зависит, как быстро производители смогут закрывать текущий дефицит чипов и памяти.
40%прирост пропускной способности сканеров
150 → 300 ммувеличение формата фотомасок
более 1 млн пластинобработано Intel на 18A/18A-P
Китай отстаёт от ASML в EUV-литографии на 15 лет — оценки UBS и Zeiss совпадают
Аналитики UBS считают, что китайские производители литографического оборудования отстают от нидерландской ASMLi примерно на 15 лет и вряд ли освоят EUV-технологию самостоятельно раньше 2040 года. Эту оценку подтвердил и Франк Рохмунд, руководитель полупроводникового подразделения немецкой Zeiss Group, поставляющей оптику для сканеров ASML — единственного в мире производителя EUV-установок.
При этом Китай уже создал прототип EUV-установки, но производить на нём чипы пока не получается. Зато в сегменте менее продвинутой DUVi-литографии прогресс быстрее: по данным Reuters, выпуск таких систем китайскими компаниями может вырасти с пяти в этом году до примерно 20 в следующем.
15 летотставание Китая от ASML в литографии
2040год, раньше которого Китай вряд ли освоит EUV
5 → 20 системрост выпуска DUV-установок в Китае за год
Китай разработал ключевой компонент для EUV-литографии
3@ru3dnewsмедиа / агрегатор
2 месКитай разработал ключевой компонент для суверенной EUV-литографии — помог бывший инженер ASML
Производство полупроводников зависит от литографических сканеров, но их выпускает лишь несколько западных компаний. Китай, пытаясь сократить отставание, развивает собственные технологии. Недавно местным исследователям удалось создать источник излучения в сверхжёстком ультрафиолетовом диапазоне EUV. Такие источники нужны для разработки передового оборудования для производства чипов.
#asml #euv #литография #производствомикросхем
📎Подробнее
🔖 3DNews в TG | MAX | VK
Zeiss расширила производство оптики для ASML
3@ru3dnewsмедиа / агрегатор
3 месZeiss расширила производство оптики в Германии, чтобы удовлетворить аппетиты ASML
Zeiss SMT запустила первое новое производственное здание на площадке в Оберкохене. Строительство расширения началось в 2022 году. Новые мощности нужны ASML: выпуск EUV-сканеров сейчас ограничен возможностями Zeiss по производству оптики.
#asml #zeiss #euv
📎Подробнее
🔖 3DNews в TG | MAX | VK
Китайский стартап «Юаньцзивэй» запускает производство 2D-полупроводников без EUV
Х@htech_plusисследователь
3 месЭто всё на сейчас.