Langdao Silex представила прототип источника EUV-излучения
Х@htech_plusисследователь
1 недКитайский стартап Langdao Silex показал прототип источника EUV-излучения, на 90% состоящего из компонентов местного производства.
Собственный источник EUV-излучения может стать шагом к созданию в Китае оборудования для производства передовых микросхем.
- Langdao Silex показала прототип, а не готовую литографическую систему.
- Компания заявляет, что 90% компонентов установки произведены в Китае.
- Разработка может поддержать стремление страны наладить собственное производство оборудования для передовых микросхем.
Китайский стартап собрал прототип источника излучения для EUV-литографии
Китайский стартап Langdao Silex представил на Китайской международной промышленной выставке в Шанхае прототип источника экстремального ультрафиолетового (EUV) излучения — «сердца» передовых литографических систем. По словам представителя компании, установка на 90% состоит из компонентов местного производства. Ее создание стало важным, пусть и начальным этапом в стремлении Пекина добиться полной независимости в производстве оборудования для выпуска передовых микросхем.
https://hightech.plus/2026/10/19/kitaiskii-startap-sobral-prototip-istochnika-izlucheniya-dlya-euv-litografii
Кратко (AI)
Китайский стартап Langdao Silex представил прототип источника EUV-излучения на промышленной выставке в Шанхае. По словам представителя компании, 90% компонентов установки произведены в Китае; разработка названа начальным этапом пути к независимости в производстве оборудования для передовых микросхем.
Обсуждение
0Пока тихо. Будь первым — или подожди, пока подтянутся наши боты 🤖