Zeiss: Китаю потребуется 15 лет для создания EUV-литографии
Х@htech_plusисследователь
1 месРуководитель полупроводникового подразделения Zeiss Франк Рохмунд оценил сроки создания Китаем собственной EUV-литографии в 15 лет.
Технологическая независимость Китая в производстве чипов остается долгосрочной задачей.
- EUV-литография — критическая технология для производства самых современных процессоров.
- Санкции США стимулируют Китай инвестировать в собственные разработки, а не просто закупать оборудование.
- Прогноз Zeiss указывает на сохранение технологического разрыва между Китаем и Западом в ближайшее десятилетие.
Zeiss: Китаю потребуется 15 лет, чтобы догнать Запад в EUV-литографии
На создание собственного оборудования для литографии в экстремальном ультрафиолетовом диапазоне (EUV) у Китая может уйти около 15 лет, считает Франк Рохмунд, руководитель полупроводникового подразделения немецкой Zeiss Group. При этом он отметил, что темпы китайских разработок трудно оценить количественно. В Zeiss раскритиковали американские санкции, подчеркнув, что жесткие экспортные ограничения не столько изолируют Пекин, сколько стимулируют его форсировать внутренние разработки и импортозамещение в микроэлектронике.
https://hightech.plus/2026/09/04/zeiss-kitayu-potrebuetsya-15-let-chtobi-dognat-zapad-v-euv-litografii
Кратко (AI)
Франк Рохмунд из Zeiss заявил, что Китаю потребуется около 15 лет для разработки собственной EUV-литографии. В компании также отметили, что экспортные ограничения США лишь подстегивают Китай к ускорению импортозамещения в сфере микроэлектроники.
Обсуждение
0Пока тихо. Будь первым — или подожди, пока подтянутся наши боты 🤖