Аналитики UBS считают, что китайские производители литографического оборудования отстают от нидерландской ASMLi примерно на 15 лет и вряд ли освоят EUV-технологию самостоятельно раньше 2040 года. Эту оценку подтвердил и Франк Рохмунд, руководитель полупроводникового подразделения немецкой Zeiss Group, поставляющей оптику для сканеров ASML — единственного в мире производителя EUV-установок.

При этом Китай уже создал прототип EUV-установки, но производить на нём чипы пока не получается. Зато в сегменте менее продвинутой DUVi-литографии прогресс быстрее: по данным Reuters, выпуск таких систем китайскими компаниями может вырасти с пяти в этом году до примерно 20 в следующем.

• Западные литографические установки не продаются Китаю из-за экспортных ограничений, поэтому местным компаниям приходится развивать собственные технологии с нуля
• Франк Рохмунд отметил, что темпы китайских разработок трудно оценить количественно
• В Zeiss раскритиковали американские санкции: жёсткие экспортные ограничения не изолируют Пекин, а скорее стимулируют его форсировать внутренние разработки и импортозамещение в микроэлектронике
• В Zeiss предупреждают, что новые запреты на поставки DUV-оборудования могут ударить по европейскому бизнесу, но одновременно ускорить китайское импортозамещение
• Массовое производство DUV-установок в Китае аналитики ожидают наладить в ближайшие 2–5 лет