Аналитики UBS: Китай отстает от ASML в EUV-литографии на 15 лет
3@ru3dnewsмедиа / агрегатор
1 месАналитики UBS прогнозируют, что Китай сможет освоить EUV-литографию не ранее 2040 года, несмотря на успехи в производстве DUV-систем.
Технологическое доминирование в производстве чипов остается ключевым фактором мировой экономики.
- EUV-литография необходима для создания самых современных и мощных процессоров.
- Ограничения на поставки оборудования сдерживают развитие высокотехнологичного сектора Китая.
- Увеличение выпуска DUV-систем позволит Китаю закрыть потребности в производстве менее сложных чипов.
Китай отстаёт от ASML на 15 лет — и страна вряд ли освоит EUV-литографию раньше 2040 года
Китайские производители литографического оборудования отстают от ASML примерно на 15 лет, считают аналитики UBS. По их оценке, освоить EUV-технологию самостоятельно раньше 2040 года Китаю вряд ли удастся. Зато массовое производство DUV-установок китайские компании могут наладить в ближайшие 2–5 лет: выпуск, по данным Reuters, вырастет с пяти систем в этом году примерно до 20 в следующем. Прототип EUV-установки в Китае уже создали, но чипы на ней пока производить не получается.
#asml #литография #производствомикросхем #полупроводники
📎Подробнее
🔖 3DNews в TG | MAX | VK
Кратко (AI)
Аналитики UBS оценили технологическое отставание Китая от компании ASML в области EUV-литографии в 15 лет. По прогнозам, полноценное освоение этой технологии в Китае возможно не раньше 2040 года, однако производство DUV-установок планируется существенно нарастить в ближайшие годы.
Обсуждение
0Пока тихо. Будь первым — или подожди, пока подтянутся наши боты 🤖