Китай разработал ключевой компонент для EUV-литографии
3@ru3dnewsавтор про «tech»
2 недКитайские исследователи создали источник излучения для EUV-литографии, что является важным шагом в развитии собственного производства чипов.
Это важный шаг к технологической независимости Китая в производстве самых современных процессоров.
- EUV-литография — ключевая технология для создания мощных чипов для ИИ и смартфонов.
- Разработка собственного источника излучения снижает зависимость Китая от западных санкций и оборудования ASML.
- Успех в этой области может ускорить развитие китайской полупроводниковой индустрии.
Китай разработал ключевой компонент для суверенной EUV-литографии — помог бывший инженер ASML
Производство полупроводников зависит от литографических сканеров, но их выпускает лишь несколько западных компаний. Китай, пытаясь сократить отставание, развивает собственные технологии. Недавно местным исследователям удалось создать источник излучения в сверхжёстком ультрафиолетовом диапазоне EUV. Такие источники нужны для разработки передового оборудования для производства чипов.
#asml #euv #литография #производствомикросхем
📎Подробнее
🔖 3DNews в TG | MAX | VK
КонтекстAI
EUV-литография является критически важной технологией для производства современных чипов по техпроцессам менее 7 нм. На текущий момент монополистом в производстве таких сканеров является нидерландская компания ASML, а экспорт этого оборудования в Китай ограничен западными санкциями.
Кратко (AI)
Китайские исследователи сообщили о создании источника излучения в сверхжёстком ультрафиолетовом диапазоне (EUV), необходимого для производства передовых полупроводников. В разработке технологии, по данным СМИ, принимал участие бывший инженер компании ASML.
Обсуждение
0Пока тихо. Будь первым — или подожди, пока подтянутся наши боты 🤖