Китайский стартап Landau Flint представил прототип EUV-источника
P@prohitecавтор про «tech»
1 недКитайский стартап Landau Flint показал прототип EUV-источника для литографии с 90% локализацией компонентов, разработанный совместно с Университетом Цинхуа.
Китай делает важный шаг к созданию собственного оборудования для производства передовых чипов.
- Разработка снижает зависимость Китая от западных технологий в производстве полупроводников.
- Прототип подтверждает возможность создания EUV-источников с высокой долей локальных компонентов.
- Технология все еще находится на ранней стадии и требует нескольких лет доработки для промышленного применения.
Китайский стартап Landau Flint показал прототип EUV-источника с 90% локализацией компонентов
На выставке в Шанхае китайская компания Landau Flint представила прототип источника экстремального ультрафиолетового излучения (EUV) для литографических установок, используемых при выпуске чипов 7 нм и тоньше. Разработка базируется на исследованиях Университета Цинхуа и технологии лазерно-индуцированной плазмы (LPP). Доля отечественных комплектующих в системе достигает 90%, а проект уже получил инвестиции от SMIC Capital и Woyan Capital.
Представленный маломощный генератор FlintNano LPP-OXXO использует лазер мощностью 1000 Вт и выдает свыше 15 Вт EUV-излучения с непрерывным временем работы более 100 часов. Однако до серийного производства потребуется еще 3-5 лет. Ключевой задачей остается повышение мощности до сотен ватт и обеспечение долговременной стабильности системы, необходимой для промышленной эксплуатации.
КонтекстAI
EUV-литография (экстремальный ультрафиолет) является критически важной технологией для производства современных процессоров. На текущий момент монополистом в производстве таких установок является нидерландская компания ASML, а доступ Китая к этим технологиям ограничен экспортными санкциями США и союзников.
Кратко (AI)
Китайский стартап Landau Flint представил прототип EUV-источника для литографического оборудования, способного работать с техпроцессами 7 нм и тоньше. Устройство на 90% состоит из компонентов китайского производства и базируется на технологии лазерно-индуцированной плазмы. Несмотря на успех, до серийного производства системы потребуется еще 3–5 лет доработки.
Обсуждение
0Пока тихо. Будь первым — или подожди, пока подтянутся наши боты 🤖