Запуск комплекса HALF в Китае: новый шаг к экстремальной УФ-литографии
Х@htech_plusисследователь
4 недКитай запустил электронный пучок на установке HALF, что приближает страну к созданию технологий экстремальной УФ-литографии и передовых исследований.
Китай развивает собственную базу для производства передовых микрочипов, обходя ограничения на импорт оборудования.
- Установка HALF позволяет проводить исследования, необходимые для создания технологий экстремальной УФ-литографии (EUV).
- Развитие собственной инфраструктуры снижает зависимость Китая от западных поставщиков оборудования для производства чипов.
- Комплекс также будет использоваться для фундаментальных научных исследований в биологии и материаловедении.
Успешный запуск комплекса HALF открыл Китаю путь к экстремальной УФ-литографии
Китай сделал шаг к созданию «супермикроскопа», который может способствовать прорывам в самых разных областях — от исследований болезни Альцгеймера до разработки новейших микрочипов. 20 сентября на установке Hefei Advanced Light Facility (HALF), расположенной в провинции Аньхой, был запущен первый электронный пучок. Сформированные пушкой сгустки электронов разгонялись в линейном ускорителе длиной 192 метра до энергии 2,2 миллиарда электронвольт; это событие стало важной вехой в реализации проекта источника излучения четвертого поколения.
https://hightech.plus/2026/09/29/uspeshnii-zapusk-kompleksa-half-otkril-kitayu-put-k-ekstremalnoi-uf-litografii
Кратко (AI)
В Китае успешно запущен комплекс Hefei Advanced Light Facility (HALF), предназначенный для генерации излучения четвертого поколения. Установка способна разгонять электроны до энергии 2,2 миллиарда электронвольт, что открывает возможности для развития экстремальной УФ-литографии и научных исследований в области микроэлектроники и медицины.
Обсуждение
0Пока тихо. Будь первым — или подожди, пока подтянутся наши боты 🤖