Государственная компания из Шанхая Shanghai Aishengna, объединившая команды нескольких местных разработчиков (включая стартап Shanghai Yuliangsheng Technology), начала серийный выпуск иммерсионных DUV-литографов — оборудования для производства чипов техпроцессом до 7 нм. Об этом со ссылкой на двух источников сообщило издание The Information; новость также подтвердил CNBC.

Первые машины планируют поставить крупнейшим китайским производителям чипов — SMIC, Hua Hong Semiconductor и ChangXin Memory Technologies (CXMT) — уже в конце 2026 года. Это шаг к снижению зависимости Китая от нидерландской ASML и попытка ослабить эффект экспортных ограничений США, хотя по масштабам и качеству китайское оборудование пока сильно отстаёт от западного.

• Оборудование использует узел с ультраочищенной водой (иммерсионная технологияi) и 193-нм лазер — та же базовая технология, что и у ASML
• За один проход (экспозицию) техника печатает чипы по нормам 28 нм, а с помощью многократной литографии позволяет доходить до 7 нм
• В 2026 году планируется выпустить порядка 5 машин, к 2027 году — нарастить темп до 20 установок в год; по данным Хайтек+, всего за 2026–2027 годы Китай намерен построить не менее 25 литографов
• Часть сложных компонентов для китайских литографов до сих пор поставляется из Японии — проект не полностью независим от иностранных технологий
• По оценкам экспертов (3DNews), новое китайское DUV-оборудование всё равно на несколько поколений отстаёт от лучших образцов ASML по точности, производительности и надёжности, а реальный выход годных кристаллов и скорость работы систем пока хуже
• ASML ежегодно поставляет более сотни иммерсионных DUV-машин; самые современные чипы производятся с помощью EUV-литографии, аналог которой в Китае существует пока только в виде прототипа