Китай сделал разработку чипов приоритетом пятилетнего плана на 2026–2030 годы










TSMC, Samsung и Intel договорились о переходе на фотомаскиi (фотошаблоны) увеличенного формата — с 150 до 300 мм (12-дюймовые) — для сканеров ASML High-NA EUVi. Это должно повысить пропускную способность машин примерно на 40% и снизить себестоимость производства передовых чипов и памяти.
Сроки перехода у компаний разные: Intel уже применяет технологию сегодня, Samsung нацелена на 2028 год, а TSMC — на более отдалённую перспективу. Решение важно для отрасли, поскольку от него зависит, как быстро производители смогут закрывать текущий дефицит чипов и памяти.












По новому отчёту Goldman Sachs, Китай в 2025-2035 годах резко нарастит собственное производство передовых полупроводников (техпроцессы 7 нм и тоньше): поставки пластин будут расти в среднем на 46% в год, тогда как спрос — только на 17% в год. Из-за этого разрыв между внутренним производством и потреблением сократится с 92% в 2025 году до 34% в 2035-м, то есть Китай закроет около 66% своей потребности в таких чипах.
Главным драйвером роста станет агрессивное расширение мощностей SMICi — крупнейшего китайского контрактного производителя чипов, а также рост выхода годных изделий. Однако аналитики подчёркивают: полная технологическая независимость Китая всё равно недостижима, так как страна не производит собственное литографическое оборудование и отстаёт на три поколения от связки США, Европы и Тайваня.
ВыводК 2035 году выпуск чипов в Китае достигнет 410 тыс. пластин в месяц при спросе в 619 тыс. пластин

