Китайский стартап Landau Flint показал прототип EUV-источника с 90% локализацией компонентов На выставке в Шанхае китайская компания Landau Flint представила прототип источника экстремального ультрафиолетового излучения (EUV) для литографических установок, используемых при выпуске чипов 7 нм и тоньше. Разработка базируется на исследованиях Университета Цинхуа и технологии лазерно-индуцированной плазмы (LPP). Доля отечественных комплектующих в системе достигает 90%, а проект уже получил инвестиции от SMIC Capital и Woyan Capital. Представленный маломощный генератор FlintNano LPP-OXXO использует лазер мощностью 1000 Вт и выдает свыше 15 Вт EUV-излучения с непрерывным временем работы более 100 часов. Однако до серийного производства потребуется еще 3-5 лет. Ключевой задачей остается повышение мощности до сотен ватт и обеспечение долговременной стабильности системы, необходимой для промышленной эксплуатации.