По данным доклада американского Центра технологий и государственного управления (CTS), китайские производители микросхем с 2012 года получили около 343 иммерсионных DUV-литографiов ASML, включая 270 установок модели NXT:1980ii. Несмотря на экспортные ограничения на поставки передовых EUV-систем, этого оборудования достаточно для производства 7-нм чипов и памяти HBM2ei, используемых в ИИ-ускорителях Huawei.

Авторы отчёта считают, что накопленный парк литографов позволит Китаю наращивать выпуск современных процессоров на годы вперёд, даже если новые поставки передовой техники прекратятся полностью.

Полный разбор →

Государственная компания из Шанхая Shanghai Aishengna, объединившая команды нескольких местных разработчиков (включая стартап Shanghai Yuliangsheng Technology), начала серийный выпуск иммерсионных DUV-литографов — оборудования для производства чипов техпроцессом до 7 нм. Об этом со ссылкой на двух источников сообщило издание The Information; новость также подтвердил CNBC.

Первые машины планируют поставить крупнейшим китайским производителям чипов — SMIC, Hua Hong Semiconductor и ChangXin Memory Technologies (CXMT) — уже в конце 2026 года. Это шаг к снижению зависимости Китая от нидерландской ASML и попытка ослабить эффект экспортных ограничений США, хотя по масштабам и качеству китайское оборудование пока сильно отстаёт от западного.

Полный разбор →