ASML готовит литографию нового поколения — Hyper NA через 10 лет уменьшит элементы чипов более чем на треть ASML вместе с Carl Zeiss разрабатывает литографическую установку Hyper NA, которая может появиться примерно через десять лет. Она будет формировать элементы чипов с разрешением около 5 нм — примерно на 38% мельче, чем нынешние системы High NA. Это не означает появление «5-нм техпроцесса»: современные названия вроде N2 и 18A обозначают поколения технологий, а не точный размер транзисторов. Zeiss уже делает необходимые зеркала, но ASML пока не решила, запускать ли Hyper NA в серийное производство. #asml #carlzeiss #euv #hyperna 📎Подробнее 🔖 3DNews в TG | MAX | VK