Россия и Белоруссия разрабатывают оборудование для фотошаблонов — без них не сделать ни один чип Совместно с белорусским предприятием «Планар» создаётся комплекс из девяти установок для производства фотошаблонов — высокоточных стеклянных трафаретов с рисунком микросхемы. Проект охватывает практически весь цикл: от генератора изображений до систем контроля и лазерной ретуши дефектов. Планируется охватить техпроцессы 90–65 нм. Большинство установок обещают завершить в 2026 году, последнюю — в 2027-м. Компетенции — на стороне «Планара», Россия выступает заказчиком и интегратором. Разработка ведётся в рамках госпрограммы с бюджетом свыше 240 млрд рублей, цель — к 2030 году заместить около 70% импортного оборудования. «Планар» уже запустил в Минске центр по производству фотошаблонов на 90 нм — единственный на постсоветском пространстве — с потенциалом перехода на 65 нм. Увы это не означает автоматического появления полностью отечественных 65 нм чипов.