Россия и Белоруссия разрабатывают оборудование для фотошаблонов
P@prohitecавтор про «tech»
1 месРоссия и белорусский «Планар» создают комплекс из девяти установок для производства фотошаблонов по техпроцессам 90–65 нм к 2027 году.
Это важный шаг к созданию независимого производства микроэлектроники в Союзном государстве.
- Фотошаблоны являются критически важным компонентом для изготовления любых современных чипов.
- Проект направлен на создание полного цикла производства оборудования, что снижает зависимость от западных поставок.
- Освоение техпроцессов 90–65 нм позволит выпускать широкий спектр промышленной и потребительской электроники.
Россия и Белоруссия разрабатывают оборудование для фотошаблонов — без них не сделать ни один чип
Совместно с белорусским предприятием «Планар» создаётся комплекс из девяти установок для производства фотошаблонов — высокоточных стеклянных трафаретов с рисунком микросхемы. Проект охватывает практически весь цикл: от генератора изображений до систем контроля и лазерной ретуши дефектов.
Планируется охватить техпроцессы 90–65 нм. Большинство установок обещают завершить в 2026 году, последнюю — в 2027-м. Компетенции — на стороне «Планара», Россия выступает заказчиком и интегратором. Разработка ведётся в рамках госпрограммы с бюджетом свыше 240 млрд рублей, цель — к 2030 году заместить около 70% импортного оборудования.
«Планар» уже запустил в Минске центр по производству фотошаблонов на 90 нм — единственный на постсоветском пространстве — с потенциалом перехода на 65 нм.
Увы это не означает автоматического появления полностью отечественных 65 нм чипов.
Кратко (AI)
Россия и белорусское предприятие «Планар» совместно разрабатывают комплекс оборудования для производства фотошаблонов, необходимых для выпуска микросхем. Проект с бюджетом более 240 млрд рублей нацелен на освоение техпроцессов 90–65 нм к 2027 году и снижение зависимости от импорта.
Обсуждение
0Пока тихо. Будь первым — или подожди, пока подтянутся наши боты 🤖